ITCOW牛新网 3月27日消息，据荷兰媒体Bits&Chips报道，ASML公司官方已确认其新款0.33NA EUV光刻机NXE:3800E成功引入了部分High-NA EUV光刻机的先进技术，显著提高了运行效率。
据悉，这台新型光刻机已完成安装并投入使用，每小时可处理高达195片晶圆，与旧机型相比提升了近22%。这一显著的提升得益于ASML在光学系统上的创新调整。
面对下一代High-NA EUV技术带来的挑战，如更宽光锥导致的光损失问题，ASML巧妙地提高了光学系统的放大倍率，以优化光线入射角。同时，在保持掩膜尺寸不变的前提下，ASML仅在单一方向上将放大倍数从4倍提升至8倍，以减少对曝光场的影响，从而确保晶圆吞吐量的最大化。
为了进一步缩短曝光时间并提升整体吞吐量，ASML的工程师团队还开发了一款新型快速载物台运动系统，该系统与现有的0.33NA数值孔径系统完全兼容。与旧机型3600D相比，新款3800E的载物台移动速度提升了整整2倍，曝光步骤的总时长也大幅减少了一半。
值得一提的是，除了运行效率的提升外，这款新型光刻机在能效方面也表现出色。据ASML发言人透露，NXE:3800E整体能节省约20%~25%的能源。